來自 London Centre for Nanotechnology (LCN) 的研究者在構成石墨超導體之石墨烯薄片的表面上發現一種電子帶狀物,稱為「電荷密度波(charge density waves)」。這些帶狀物是首度在石墨烯上被看見,同時這項發現很可能對這種最近才被發現的材料有著深遠的影響。科學家們認為,這種材料將在未來的奈米科技中扮演某種關鍵角色。這項發現,在 11/29 的 Nature Communications 中報告。
二氧化矽、碳化矽、氮化矽這些半導體材料,特別適合使用化學氣相沉積法(CVD, Chemical Vapor Deposition)。CVD 的過程也不難,氫氣、氬氣這些用來攜帶原料的「載氣」,會帶著要參與反應的氣體或原料蒸氣進入反應室。當兩種以上的原料在此混和,便會在已被加熱的目標基材上產生化學反應,逐漸在晶圓表面上長出我們的目標材料。
在 ALD 的第一階段,我們先注入含有 A 成分的前驅物與基板表面反應。在這一步,要確保前驅物只會與基板產生反應,而不會不斷疊加,這樣,形成的薄膜,就絕對只有一層原子的厚度。反應會隨著表面空間的飽和而逐漸停止,這就稱為自我侷限現象。此時,我們可以通入惰性氣體將多餘的前驅物和副產物去除。在第二階段,我們再注入含有 B 成分的化學氣體,與早已附著在基材上的 A 成分反應,合成為我們的目標材料。
來自 London Centre for Nanotechnology (LCN) 的研究者在構成石墨超導體之石墨烯薄片的表面上發現一種電子帶狀物,稱為「電荷密度波(charge density waves)」。這些帶狀物是首度在石墨烯上被看見,同時這項發現很可能對這種最近才被發現的材料有著深遠的影響。科學家們認為,這種材料將在未來的奈米科技中扮演某種關鍵角色。這項發現,在 11/29 的 Nature Communications 中報告。