有的,目前有兩個獎項被視為相當於數學界的諾貝爾獎,一個是由挪威政府為了紀念英年早逝的挪威數學家阿貝爾(Niels H. Abel, 1802-1829)而設立的阿貝爾獎,自 2003 年起每年頒發一次,獎金金額也與諾貝爾獎相當。另一個就是由加拿大數學家費爾茲(John C. Fields, 1863-1932)個人設立的費爾茲獎。
費爾茲擔任 1924 年「國際數學家大會」(International Congress of Mathematicians)的主席時,就提議設立一個類似諾貝爾獎的獎項,並將此屆會議的結餘款做為種子基金。但經過八年直到他臨終前仍無進展,於是他立下遺囑,捐出他的遺產連同種子基金作為費爾茲獎的基金。1932 年 9 月 5 日,他過世四個星期後,這一屆的國際數學家大會一致通過遵其遺願,設立費爾茲獎。
二氧化矽、碳化矽、氮化矽這些半導體材料,特別適合使用化學氣相沉積法(CVD, Chemical Vapor Deposition)。CVD 的過程也不難,氫氣、氬氣這些用來攜帶原料的「載氣」,會帶著要參與反應的氣體或原料蒸氣進入反應室。當兩種以上的原料在此混和,便會在已被加熱的目標基材上產生化學反應,逐漸在晶圓表面上長出我們的目標材料。
在 ALD 的第一階段,我們先注入含有 A 成分的前驅物與基板表面反應。在這一步,要確保前驅物只會與基板產生反應,而不會不斷疊加,這樣,形成的薄膜,就絕對只有一層原子的厚度。反應會隨著表面空間的飽和而逐漸停止,這就稱為自我侷限現象。此時,我們可以通入惰性氣體將多餘的前驅物和副產物去除。在第二階段,我們再注入含有 B 成分的化學氣體,與早已附著在基材上的 A 成分反應,合成為我們的目標材料。
“for their foundational contributions to theoretical computer science and discrete mathematics, and their leading role in shaping them into central fields of modern mathematics”